欧美极品精品亚洲国产,日本国产亚洲欧洲第12页 ,国产激烈床戏无遮挡免费视频

半導體材料 — 光刻膠

產品名稱

電子束光刻膠、寬帶厚膠、紫外光刻薄膠、納米壓印膠、聚酰亞胺光刻膠

數據參數

類型	光刻膠型號	適用光譜	厚度范圍/um	分辨率	適用工藝
紫外光刻膠-薄膠	S1800系列	g-Line, broad line	0.5-3.5	0.5um	正性光刻膠，穩定性好;適用于分辨率要求較高的光刻工藝
	AZ5214	g/h/i-Line	1-2um	0.5um	反轉膠
	BCI-3511	i-Line	0.5-2	0.5um	正性i線光刻膠，適用于各類接觸式光刻機(maskaligner)，stepper
	SPR955	i-Line	0.5-3.5	0.35um	正性i線光刻膠，適用于分辨率要求較高的濕法腐蝕和干法刻蝕
	AZ 1500	g/h/i-Line	0.5-5	1um	正性光刻膠，廣泛應用于半導體制造
寬帶厚膠	SU-8 10系列	g/h/i-Line	0.1-200	0.5um	負性環氧類化學放大光刻膠，具有高深寬比，光刻后可以達到非常好的陡直度.
	導電SU-8（GCM3060）	g/h/i-Line	1-50	0.5um	負性環氧類光刻膠；可導電、粘合性較好，圖層應力降低
	SPR220	g/h/i-Line	1—30	1um	正性光刻膠，用于MEMS和Bump工藝
	NR26-25000P	g/h/i-Line	20-130		負性光刻膠，適用于各類接觸式光刻機（mask aligner）、stepper、scanner
	AZ P4620	g/h/i-Line	6—20	1um	正性光刻膠
電子束光刻膠	HSQXR-1541-006	EB	85nm~180nm	6nm	極佳分辨率負膠，抗刻蝕
	Z520		0.05-1	10-50nm	高分辨率電子束正膠,抗刻蝕
	PMMA		電子束正膠
	EBL 6000系列		0.1-0.5	50nm	負性電子束光刻膠
	ma-N2400系列		0.1-1.5	30nm	負性電子束光刻膠
納米壓印膠	mr-NIL 6000E	熱固化和UV固化	0.1-1	50nm	可用于納米圖形的制造、刻蝕、多層系統等
	mr-I 9000M	熱固化	0.1-1	50nm
	mr-UVCur21	UV固化	0.1-5	50nm
光固化膠	Ormo系列	g/h/i-Line	0.1-300	50nm	適用于制造光柵、微型鏡片、光耦合器和連接器等

半導體材料

半導體材料 — 光刻膠

產品名稱

數據參數